日前，致公党支部成员、材料与环境工程学院赵士超副教授以我校为第一作者单位，在国际顶级化学期刊《J. Am. Chem. Soc.》（影响因子9.019）上发表了题为“Molecular Lithography through DNA-Mediated Etching and Masking of SiO2 ”的论文。
该论文是赵士超副教授与美国匹兹堡大学研究小组合作在DNA分子光刻和石墨烯稳定性两个领域开展创新性研究的成果，先后被《Chemistry World》、Nanowerk网站、《Nature Materials》的Highlights专栏报道。（材料与环境工程学院）
